发明名称 | 波导、包括波导的装置和波导的制造方法 | ||
摘要 | 本公开涉及波导、包括波导的装置和波导的制造方法。提供一种能够抑制由于制造过程等在初始阶段或操作中在半导体中导致的应变和缺陷,以实现诸如振荡特性的特性的改善和稳定化的波导以及该波导的制造方法。波导包括:由相对于波导模式的电磁波介电常数的实部为负的负介电常数介质构成的第一导体层和第二导体层;和与第一导体层和第二导体层接触并被设置在其间并包含半导体部分的芯层。至少第一导体层具有沿面内方向延伸的特定的凹凸结构。 | ||
申请公布号 | CN102790356A | 申请公布日期 | 2012.11.21 |
申请号 | CN201210148481.1 | 申请日期 | 2012.05.14 |
申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 小山泰史 |
分类号 | H01S5/20(2006.01)I | 主分类号 | H01S5/20(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 曹瑾 |
主权项 | 一种波导,包括:第一导体层和第二导体层,由相对于波导模式的电磁波其介电常数的实部为负的负介电常数介质构成;和芯层,与第一导体层和第二导体层接触并被设置在二者之间,并且包含半导体部分,其中,至少第一导体层具有沿面内方向延伸的凹凸结构,以及其中,凹凸结构沿与波导模式中的电磁波的传播方向垂直的方向布置,并且包含多个凸部。 | ||
地址 | 日本东京 |