一种磁控溅射圆柱靶

摘要

一种磁控溅射圆柱靶，属于薄膜制备用装置，包括靶芯、冷却水流道、靶材，其特征是：所述靶芯的外圆周面上沿轴向设有多条凹槽；各凹槽内分别设有一磁条，所述磁条由多个条形磁铁依次排列形成；每个磁条的条形磁铁的磁极沿靶芯的径向设置，且当所述凹槽条数为奇数时，所述各条形磁铁沿靶芯径向朝外的磁极同为N极或同为S极；当所述凹槽条数为偶数时，间隔一个凹槽的凹槽内的条形磁铁沿靶芯径向朝外的磁极同为N极或S极，且相邻凹槽内的条形磁铁沿靶芯径向朝外的磁极相反。它形成的等离子体区域面积大，溅射均匀，提高了靶材的利用率、避免靶材的浪费。

主权项

一种磁控溅射圆柱靶，包括靶芯、冷却水流道、靶材，其特征是：所述靶芯的外圆周面上沿轴向设有多条凹槽；各凹槽内分别设有一磁条，所述磁条由多个条形磁铁依次排列形成；每个磁条的条形磁铁的磁极沿靶芯的径向设置，且当所述凹槽条数为奇数时，所述各条形磁铁沿靶芯径向朝外的磁极同为N极或同为S极；且相邻凹槽内的条形磁铁沿靶芯径向朝外的磁极相反。