发明名称 一种硅晶磊晶层、相关的晶硅基板结构及利用晶硅基板制造的硅晶太阳能电池结构
摘要 一种硅晶磊晶层、相关的晶硅基板结构及利用晶硅基板制造的硅晶太阳能电池结构,其中硅晶磊晶层包括一晶硅基板以及一金属浆料,晶硅基板的厚度为120.0微米与220.0微米间,金属浆料印制覆盖晶硅基板的至少一个全表面,金属浆料印制覆盖的厚度范围为5.0微米与300.0微米间,金属浆料包括一第一金属微粒与一助剂,且在晶硅基板全表面形成一厚度为6.0微米以上的硅晶薄膜,晶硅基板的阻值规格为0.05Ω.㎝以上,硅晶薄膜的阻值规格为0.0001Ω.㎝与1.0Ω.㎝间,金属浆料的黏度范围是10与500PaS间,而第一金属微粒的纯度是99.9%与99.9999%间,第一金属微粒的粒径范围为0.01微米与20.0微米间,第一金属微粒的重量百分比为70%与90%间,助剂的重量百分比为10%与30%间,第一金属微粒,是与硅晶能共溶的金属微粒,或其合金的微粒,或其相互混合的微粒。
申请公布号 CN202549894U 申请公布日期 2012.11.21
申请号 CN201120210726.X 申请日期 2011.06.21
申请人 致嘉科技股份有限公司 发明人 张嘉甫;陈文泰
分类号 H01L31/18(2006.01)I;H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/0224(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 北京挺立专利事务所(普通合伙) 11265 代理人 叶树明
主权项 一种硅晶磊晶层,其特征在于,所述硅晶磊晶层包括:一晶硅基板,所述晶硅基板的阻值规格为0.05Ω.㎝以上,且其厚度为120.0微米与220.0微米间;以及一金属浆料,所述金属浆料包括一第一金属微粒与一助剂,所述金属浆料印制覆盖所述晶硅基板的至少一个全表面,且在所述的晶硅基板全表面形成一硅晶薄膜;其中,所述硅晶薄膜厚度为6.0微米以上,所述硅晶薄膜的阻值规格为0.0001 Ω ㎝与1.0 Ω ㎝间;其中,所述金属浆料印制覆盖的厚度范围为5.0微米与300.0微米间,所述金属浆料的黏度范围是10与500 PaS间,而所述第一金属微粒的纯度是99.9 %与99.9999 %间、所述第一金属微粒的粒径范围为0.01微米与20.0微米间,所述第一金属微粒的重量百分比为70%与90 %间,所述助剂的重量百分比为10%与30 %间,所述第一金属微粒,是与硅晶能共溶的纯金属的铝、铜、金、锡、镓、铟或铅的金属微粒,或合金的铝铜、铝镓、铝铟、铝锡或铝硅的合金微粒,或纯金属的铝、铜、金、锡、镓、铟或铅相互混合的微粒。
地址 中国台湾新竹市牛埔东路386号