发明名称 |
一种耐高温防紫外光辐射偏光膜结构 |
摘要 |
本实用新型公开了一种耐高温防紫外光辐射偏光膜结构,包括偏光层、防紫外光层及保护层,偏光层由PVA膜延伸而成;其中延伸后的PVA膜两侧均复合有TAC膜形成保护层;而防紫外光层是复合于PVA膜一侧的TAC膜上,在防紫外光层之外再复合有保护层。由于本实用新型是将延伸后的PVA膜的两侧均复合TAC膜之后的一侧再复合防紫外光层,这样便可阻断防紫外光层中的防UV物质和PVA的接触,从而改善产品经高温处理后的结合度,防止高温脱层现象发生,保证产品性能。 |
申请公布号 |
CN202548355U |
申请公布日期 |
2012.11.21 |
申请号 |
CN201220078224.0 |
申请日期 |
2012.03.05 |
申请人 |
来奇偏光科技(中国)股份有限公司 |
发明人 |
吴进家 |
分类号 |
G02B5/30(2006.01)I;B32B23/08(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/30(2006.01)I |
代理机构 |
厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 |
代理人 |
渠述华 |
主权项 |
一种耐高温防紫外光辐射偏光膜结构,包括偏光层、防紫外光层及保护层,其中偏光层由PVA膜延伸而成;其特征在于:延伸后的PVA膜两侧均复合有TAC膜形成保护层;而防紫外光层是复合于PVA膜一侧的TAC膜上,在防紫外光层之外再复合有保护层。 |
地址 |
361022 福建省厦门市集美区杏林工业区光明路12号 |