发明名称 |
液质控制方法及装置、使用该装置的放电加工装置 |
摘要 |
本发明提供一种液质控制方法、液质控制装置以及放电加工装置,它们通过在液质控制对象即被液质控制液的液质值小于第1条件值时,将该被液质控制液电解质溶液化,在上述液质值比大于或等于第1条件值的第2条件值大时,将该被液质控制液纯水化,而使被液质控制液的液质值落在规定范围内,同时,使该被液质控制液成为pH值与电导率间存在相关性的电解质溶液,由此,当调制用于放电加工的所期望液质的水类加工液时,可以省略电导率测定单元及pH值测定单元中的某一个。 |
申请公布号 |
CN101232965B |
申请公布日期 |
2012.11.21 |
申请号 |
CN200680028403.0 |
申请日期 |
2006.04.05 |
申请人 |
三菱电机株式会社 |
发明人 |
瓦井久胜;石原秀一郎;中岛洋二;山田久 |
分类号 |
B23H1/10(2006.01)I;B23H7/36(2006.01)I |
主分类号 |
B23H1/10(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
何立波;张天舒 |
主权项 |
一种液质控制方法,其将用于放电加工的使用过的水类加工液的液质,或用于放电加工的水类加工液的原料即原液的液质,变为放电加工用的水类加工液的液质,其特征在于,该方法包括:液质测定工序,在该工序中得到液质控制对象即被液质控制液的pH值;以及液质控制工序,在该工序中在前述液质测定工序中得到的pH值小于第1条件值时,利用规定的阴离子置换前述被液质控制液中的杂质阴离子,同时,利用规定的金属离子置换该被液质控制液中的杂质阳离子,而将该被液质控制液电解质溶液化,当在前述液质测定工序中得到的pH值大于第2条件值时,将前述被液质控制液纯水化,其中该第2条件值大于或等于前述第1条件值,在该液质控制方法中,反复进行前述液质测定工序和前述液质控制工序,使前述被液质控制液的pH值成为规定范围内的值,同时使前述被液质控制液的液质成为pH值与电导率间存在相关性的电解质溶液。 |
地址 |
日本东京 |