发明名称 液质控制方法及装置、使用该装置的放电加工装置
摘要 本发明提供一种液质控制方法、液质控制装置以及放电加工装置,它们通过在液质控制对象即被液质控制液的液质值小于第1条件值时,将该被液质控制液电解质溶液化,在上述液质值比大于或等于第1条件值的第2条件值大时,将该被液质控制液纯水化,而使被液质控制液的液质值落在规定范围内,同时,使该被液质控制液成为pH值与电导率间存在相关性的电解质溶液,由此,当调制用于放电加工的所期望液质的水类加工液时,可以省略电导率测定单元及pH值测定单元中的某一个。
申请公布号 CN101232965B 申请公布日期 2012.11.21
申请号 CN200680028403.0 申请日期 2006.04.05
申请人 三菱电机株式会社 发明人 瓦井久胜;石原秀一郎;中岛洋二;山田久
分类号 B23H1/10(2006.01)I;B23H7/36(2006.01)I 主分类号 B23H1/10(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 何立波;张天舒
主权项 一种液质控制方法,其将用于放电加工的使用过的水类加工液的液质,或用于放电加工的水类加工液的原料即原液的液质,变为放电加工用的水类加工液的液质,其特征在于,该方法包括:液质测定工序,在该工序中得到液质控制对象即被液质控制液的pH值;以及液质控制工序,在该工序中在前述液质测定工序中得到的pH值小于第1条件值时,利用规定的阴离子置换前述被液质控制液中的杂质阴离子,同时,利用规定的金属离子置换该被液质控制液中的杂质阳离子,而将该被液质控制液电解质溶液化,当在前述液质测定工序中得到的pH值大于第2条件值时,将前述被液质控制液纯水化,其中该第2条件值大于或等于前述第1条件值,在该液质控制方法中,反复进行前述液质测定工序和前述液质控制工序,使前述被液质控制液的pH值成为规定范围内的值,同时使前述被液质控制液的液质成为pH值与电导率间存在相关性的电解质溶液。
地址 日本东京