发明名称 |
用于x射线分析系统的使样本流受到支持并且与窗口隔开的样本模块 |
摘要 |
一种x射线分析系统,具有用于生成被导向x射线分析聚焦区域的x射线激励射束的x射线源;以及用于将流体样本提供到所述x射线分析聚焦区域的样本室。所述x射线激励射束由x射线引擎生成,并穿过处于所述室的壁上的x射线透明屏障,从而在由所述室界定的空间内界定分析聚焦区域。采用引导所述样本流的支持结构将所述流体样本提供为在所述空间内受到支持的并且流经所述聚焦区域的流。因此,所述室的屏障既与所述聚焦区域分离又与所述样本分离,从而得到了对所述屏障的更低的污损。 |
申请公布号 |
CN102792157A |
申请公布日期 |
2012.11.21 |
申请号 |
CN201180012902.1 |
申请日期 |
2011.02.08 |
申请人 |
X射线光学系统公司 |
发明人 |
陈泽武;S·切利扬;辛凯;J·伯内特 |
分类号 |
G01N23/207(2006.01)I;G01N1/28(2006.01)I |
主分类号 |
G01N23/207(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
陈松涛;王英 |
主权项 |
一种x射线分析样本处理设备,包括:用于将样本流提供到x射线引擎的x射线分析聚焦区域的室,所述x射线分析聚焦区域设置在由所述室界定的空间内;处于由所述室界定的所述空间内的用于引导所述样本流通过所述聚焦区域的支持结构;以及处于所述室的壁内的第一x射线透明屏障,其允许x射线射向所述聚焦区域/从所述聚焦区域射出,所述第一屏障与所述样本流分离,使得样本不与所述屏障发生连续接触。 |
地址 |
美国纽约 |