蒸镀装置及薄膜装置的制造方法

摘要

本发明提供一种能够抑制成膜条件的经时变化的蒸镀装置(1)。所述蒸镀装置(1)具备：被支承在接地的真空容器(10)内的基板支架(12)、保持在基板支架(12)上的基板(14)、离开基板(14)并与基板(14)相向的蒸发源(34，36)、对基板(14)照射离子的离子枪(38)、以及对基板(14)照射电子的中和器(40)，其中，真空容器(10)具备与真空容器(10)电气悬浮的内壁(30)，中和器(40)配设在真空容器(10)的内侧侧面侧并离开离子枪(38)。

主权项

一种蒸镀装置，该蒸镀装置具备：接地的真空容器、被支承在该真空容器内的基板支架、能够保持在该基板支架上的基板、离开该基板规定距离并与该基板相向的蒸镀单元、用于对所述基板照射离子的离子枪、以及用于对所述基板照射电子的中和器，该蒸镀装置的特征在于：所述真空容器具备相对于所述真空容器电气悬浮的内壁；所述中和器配设在所述真空容器的侧面侧，并且，所述离子枪按照离子照射口与所述基板相向的状态配设在所述真空容器内部的与配设所述基板支架的一侧相反方向的一侧；所述中和器与所述离子枪离开规定距离进行配设，所述内壁的内侧面被绝缘性陶瓷被覆，并且在所述内壁形成有开口区域，所述中和器以不与所述内壁电接触的状态配设在所述开口区域的内侧。