一种真空镀膜装置、真空镀膜控制系统及控制方法

摘要

本发明公开了一种真空镀膜装置、真空镀膜控制系统及控制方法，真空镀膜装置包括真空腔体、真空泵和低温泵，真空腔体的顶部设有伞架，伞架上放置待镀膜的基片，真空腔体内设有e型电子枪，e型电子枪上设有排列成圈并可沿圆心转动的坩埚，坩埚内放有镀膜材料，在坩埚加热位的上方设有挡板，低温泵与真空腔体的连接管上设有插板阀，本发明在电子枪的电子束流轨迹控制中采用分区控制原理，在各区间分别控制X轴扫描线圈和Y轴扫描线圈的电流频率，继而控制电子束流在镀膜材料表面各区块的扫描时间，解决了氧化物材料蒸发不均匀产生的深坑现象，有效防止坩埚损坏或基片报废。

主权项

一种真空镀膜装置，包括真空腔体（1）、与真空腔体连接的真空泵（2）和低温泵（3），所述真空腔体的顶部设有伞架（4），所述伞架上放置待镀膜的基片（5），在真空腔体的下部设有e型电子枪（6），在电子枪内设有坩埚（7），所述坩埚内放有镀膜材料，真空腔体上设有观察窗（8），其特征在于：所述e型电子枪内设有排列成一圆圈并可沿圆心转动的坩埚位，所述坩埚设在坩埚位上，所述坩埚位包括一个加热位（9）和若干个存放位（10），所述坩埚加热位的上方设有挡板（11），所述挡板为活动式，所述低温泵与真空腔体的连接管上设有插板阀（12）。