| 发明名称 | 用于产生带状束流的热阴极离子源系统 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于产生带状束流的热阴极离子源系统，该热阴极离子源系统包括一放电室、由一热阴极与一对阴极构成的阴极单元以及一引出系统，该引出系统具有一设有引出缝的引出区域，该引出缝的数量为两条以上，该些引出缝在该引出区域内相互平行。本发明不但能够显著地提高所引出的离子束的束流强度、显著地提高所引出的离子束的束流强度分布均匀性，还能够更好地保证所引出的离子束的光学质量。 | ||
| 申请公布号 | CN102789945A | 申请公布日期 | 2012.11.21 |
| 申请号 | CN201110127851.9 | 申请日期 | 2011.05.17 |
| 申请人 | 上海凯世通半导体有限公司 | 发明人 | 陈炯;洪俊华;钱锋 |
| 分类号 | H01J37/08(2006.01)I;H01J37/317(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人 | 薛琦;朱水平 |
| 主权项 | 一种用于产生带状束流的热阴极离子源系统，该热阴极离子源系统包括一放电室、由一热阴极与一对阴极构成的阴极单元以及一引出系统，该引出系统具有一设有引出缝的引出区域，其特征在于，该引出缝的数量为两条以上，该些引出缝在该引出区域内相互平行。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区牛顿路200号7号楼1号 | ||