发明名称 无电镀浴和使用该浴制造高温设备元件的方法
摘要 本发明提供一种无电镀浴,其使得通过相对简单的方法在Ni基合金表面上形成不管工件的形状和尺寸如何都具有均匀厚度的Re基合金的扩散障碍层成为可能。用于通过无电镀在基底上形成包含至少50at%Re的Ni-Re-B合金的无电镀浴具有6-8的pH,并包括含等当量的0.01-0.5mol/L的Ni2+和ReO4-的金属供给源成分、含柠檬酸和至少一种其它有机酸的络合剂成分、和含二甲胺-硼烷的还原剂成分。
申请公布号 CN101275228B 申请公布日期 2012.11.21
申请号 CN200810096385.0 申请日期 2008.03.28
申请人 株式会社荏原制作所 发明人 八锹浩
分类号 C23C28/02(2006.01)I;C23C10/48(2006.01)I 主分类号 C23C28/02(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 程大军
主权项 一种用于通过无电镀在基底上形成含有至少50at%Re的Ni‑Re‑B合金的无电镀浴,所述浴具有6‑8的pH,并包括含等当量的0.01‑0.5mol/L的Ni2+和0.01‑0.5mol/L的ReO4‑的金属供给源成分、由柠檬酸和至少一种其它有机酸构成的络合剂成分、和由二甲胺‑硼烷构成的还原剂成分,柠檬酸对Ni2+和ReO4‑的总量的摩尔浓度比是1/20‑1/5,所述柠檬酸和至少一种其它有机酸的有机酸总量对Ni2+和ReO4‑的总量的摩尔浓度比是1/2‑10,二甲胺‑硼烷对Ni2+和ReO4‑的总量的摩尔浓度比是1/4‑2,所述“等当量”包括±10%的容许范围,其中所述至少一种其它有机酸是对Re具有比柠檬酸更弱的络合能力的有机酸。
地址 日本东京