发明名称 |
在等离子体弧气炬的应用中不连续气体喷射流的产生 |
摘要 |
本发明总的涉及用于等离子体气炬的喷嘴,这种喷嘴具有后部和前部,后部形成等离子体腔室的至少一部分,而前部包括第一端和第二端。第一端毗邻于后部,而第二端形成等离子体出口部分。一个或多个流体通路设置在前部内并从第一端延伸到第二端。各流体通路具有各通路出口部分,这些出口部分可提供围绕着从等离子体出口部分喷射出来的等离子体喷射流的一个或多个辅助流体不连续喷射流。本发明的特点是切割速度快,对厚的工件的穿透能力强,噪声低,弧的稳定性好,使用寿命长,所有这些都可提高用等离子体弧气炬加工工件的生产率。 |
申请公布号 |
CN101176387B |
申请公布日期 |
2012.11.21 |
申请号 |
CN200680016220.7 |
申请日期 |
2006.05.11 |
申请人 |
人工发热机有限公司 |
发明人 |
D·J·库克;S·M·利伯德;J·W·林赛;Z·段 |
分类号 |
H05H1/34(2006.01)I |
主分类号 |
H05H1/34(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
朱立鸣 |
主权项 |
一种用于转移弧等离子体气炬的喷嘴,所述喷嘴包括:后部,该后部形成等离子体腔室的至少一部分;以及前部,该前部包括设置成毗邻于所述后部的第一端、形成等离子体出口部分的第二端、以及多个设置在所述前部内的流体通路,所述多个流体通路中的每一个从所述第一端延伸到所述第二端并具有通路出口部分,所述通路出口部分设置成基本上毗邻于所述等离子体出口部分且提供多个设置成围绕着等离子体喷射流的辅助流体不连续喷射流,其中,基本上全部所述辅助流体流经所述多个流体通路。 |
地址 |
美国新罕布什尔州 |