发明名称 光掩模缺陷的定位装置及定位方法
摘要 一种定位装置,包括:基座;气浮式X-Y两坐标平面移动台;光掩模放置台,设置在该移动台上,并且包括固定台和旋转台,前者固定在移动台上,旋转台与移动台可旋转地连接;固定台上设置X-Y方向反射部件和显示移动台X-Y方向的标记;旋转台上设置若干真空孔,用于吸附固定光掩模版;光掩模上设置粗、细对准标记;激光定位装置,设置在基座上,发出光照射到所述反射部件并接受反射光以测定光掩模放置台位置;光掩模激光对准装置,设置在光掩模放置台上方,寻找并对准置于光掩模放置台上的光掩模的粗对准标记和细对准标记,以测定光掩模的精确位置。
申请公布号 CN102053479B 申请公布日期 2012.11.21
申请号 CN200910197803.X 申请日期 2009.10.28
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 葛海鸣
分类号 G03F1/72(2012.01)I;G03F1/42(2012.01)I 主分类号 G03F1/72(2012.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 郑立柱
主权项 一种用于光掩模缺陷位置的定位装置,其特征在于,包括:基座;气浮式X‑Y两坐标平面移动台,固定在基座上,用于将光掩模放置台在X‑Y方向精确移动;光掩模放置台,包括固定台和旋转台,固定台固定在所述气浮式X‑Y两坐标平面移动台上,旋转台相对于所述气浮式X‑Y两坐标平面移动台可旋转地连接在气浮式X‑Y两坐标平面移动台上;X‑Y方向反射部件和X‑Y方向标记设置在光掩模放置台的固定台上;旋转台上设置若干真空孔,用于吸附固定光掩模;激光定位装置,设置在基座上,发出光照射到所述反射部件并接受反射光以测定光掩模放置台位置;光掩模上设置粗对准标记和细对准标记;光掩模激光对准装置,设置在光掩模放置台上方,该装置利用激光扫描光掩模上的粗对准标记和细对准标记的X‑Y方向的边缘以及光掩模放置台上的X‑Y方向标记,测量出这些粗细对准标记的位置,进而测算出光掩模上对准标记的X‑Y方向相对于移动台的X‑Y标记方向的角度,将光掩模的X‑Y方向旋转到与移动台的X‑Y标记方向平行。
地址 201203 上海市浦东新区张江路18号
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