| 发明名称 | 静电容式触控面板及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明关于一种电容式触控面板及其制造方法，其中将电阻较ITO低的材料填充于在树脂层上所形成的凹版中，将其图样化以形成内嵌式感测电极，且使用相同的光阻材料同时形成感测电极与配线电极；其中该电容式触控面板包括以经图样化的多个第一方向感测电极与多个第一配线电极所形成的第一感测层；及以经图样化的多个第二方向感测电极与多个第二配线电极所形成的第二感测层；其中第一感测层与第二感测层依垂直方向相互连结。 | ||
| 申请公布号 | CN102782624A | 申请公布日期 | 2012.11.14 |
| 申请号 | CN201180011843.6 | 申请日期 | 2011.03.03 |
| 申请人 | 未来奈米科技股份有限公司 | 发明人 | 柳盛进;崔亨培;朴纪垣;许宗郁 |
| 分类号 | G06F3/044(2006.01)I;G06F3/041(2006.01)I | 主分类号 | G06F3/044(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人 | 章社杲;孙征 |
| 主权项 | 一种电容式触控面板，其包含：以经图样化的多个第一方向感测电极与多个第一配线电极所形成的第一感测层，及以经图样化的多个第二方向感测电极与多个第二配线电极所形成的第二感测层，其中第一感测层与第二感测层依垂直方向相互连结。 | ||
| 地址 | 韩国忠清北道 | ||