| 发明名称 | 聚硅氧烷嵌段共聚物 | ||
| 摘要 | 本发明包括含聚硅氧烷嵌段和聚阳离子嵌段的新型两亲性嵌段共聚物。所述聚阳离子嵌段由二烯丙基二烷基铵衍生物形成。所形成的嵌段共聚物特别可用于处理或调理角蛋白物质，如毛发或皮肤。 | ||
| 申请公布号 | CN101616658B | 申请公布日期 | 2012.11.14 |
| 申请号 | CN200880001446.9 | 申请日期 | 2008.01.29 |
| 申请人 | 西巴控股公司 | 发明人 | 巴林特·科罗斯凯尼;曼纽尔·加梅兹-卡西亚;毛建文 |
| 分类号 | A61K8/89(2006.01)I;C08L83/10(2006.01)I;C08G77/452(2006.01)I | 主分类号 | A61K8/89(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 陈桉 |
| 主权项 | 1.一种毛发调理香波组合物，其包含去污表面活性剂和0.01至1.0wt％两亲性嵌段共聚物，所述两亲性嵌段共聚物包含至少：a)下式(I)的硅氧烷嵌段聚合物：<img file="FSB00000778516400011.GIF" wi="240" he="282" />其中n为20-1000的数，其中R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>为C<sub>1</sub>-C<sub>4</sub>烷基；b)由至少下式(II)的阳离子单体形成的阳离子嵌段聚合物：<img file="FSB00000778516400012.GIF" wi="711" he="315" />其中R<sub>3</sub>和R<sub>4</sub>为氢；R<sub>5</sub>和R<sub>6</sub>为C<sub>1</sub>-C<sub>4</sub>烷基；和Y<sup>-</sup>表示阴离子，其中，wt％基于所述组合物的总重量，并且形成阳离子嵌段的式(II)的重复单元数目为10至500。 | ||
| 地址 | 瑞士巴塞尔 | ||