发明名称 蒸镀用狭长沟槽掩模板
摘要 本实用新型涉及一种蒸镀用狭长沟槽掩模板,主要解决现有OLED制造技术中,蒸镀时有机颗粒由于掩模板开口壁的遮蔽而无法达到基板的技术问题,本实用新型通过采用一种蒸镀用狭长沟槽掩模板,形状为四边形金属板,包括与铟锡氧化物(ITO)面接触的ITO面和蒸镀面两个面,所述掩模板上具有贯通铟锡氧化物面(ITO面)和蒸镀面的狭长沟槽,在ITO面上的狭长沟槽开口尺寸小于在蒸镀面上的狭长沟槽状开口尺寸的技术方案,较好地解决了该问题,可用于有机发光二极管的工业生产中。
申请公布号 CN202534699U 申请公布日期 2012.11.14
申请号 CN201220015889.7 申请日期 2012.01.16
申请人 昆山允升吉光电科技有限公司 发明人 魏志凌;高小平;郑庆靓
分类号 H01L51/56(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I 主分类号 H01L51/56(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种蒸镀用狭长沟槽掩模板,形状为四边形金属板,包括与铟锡氧化物面接触的ITO接触面和蒸镀面两个面,所述掩模板上具有贯通ITO接触面和蒸镀面的狭长沟槽开口,在ITO接触面上的狭长沟槽开口和在蒸镀面上的狭长沟槽开口中心重合,所述狭长沟槽开口相互间隔且相互平行; ITO接触面上的狭长沟槽开口面积小于在蒸镀面上的狭长沟槽开口面积。
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