| 发明名称 | 曝光方法 | ||
| 摘要 | 一种用于对系统中的靶材的表面进行曝光的方法，该系统包含一组用于测量距靶材的距离的传感器(30)。该方法包括将靶材箝制到可移动平台(134)、移动靶材至一个或多个传感器被定位于靶材上方的多个位置、接收来自被定位于靶材上方的一个或多个传感器的信号、依据接收自传感器的信号计算一个或多个倾斜度修正数值(Rx、Ry)、依据该一个或多个倾斜度修正数值调整平台的倾斜度、以及对靶材进行曝光。 | ||
| 申请公布号 | CN102782584A | 申请公布日期 | 2012.11.14 |
| 申请号 | CN201080065058.4 | 申请日期 | 2010.12.29 |
| 申请人 | 迈普尔平版印刷IP有限公司 | 发明人 | G.德波尔;J.J.J.范巴尔;K.P.帕德耶;R.莫赛尔;N.弗吉尔;S.W.H.K.斯坦布林克;J.J.科宁 |
| 分类号 | G03F9/00(2006.01)I;G01B7/02(2006.01)I;G01D5/24(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F9/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 李国华;沙捷 |
| 主权项 | 一种用于对系统中的靶材(9)的表面进行曝光的方法，该系统包括一组用于测量距该靶材的距离的传感器(30)，该方法包括：将所述靶材箝制到可移动平台(134)；移动所述靶材至一个或多个传感器被定位于所述该靶材上方的多个位置；接收来自被定位于所述靶材上方的一个或多个传感器的信号；依据从所述传感器接收的所述信号计算一个或多个倾斜度修正数值(Rx、Ry)；依据所述一个或多个倾斜度修正数值调整所述平台的倾斜度；以及对所述靶材进行曝光。 | ||
| 地址 | 荷兰代夫特 | ||