发明名称 |
显影装置、处理盒以及成像设备 |
摘要 |
利用通过在纵向上弯曲片状调节构件产生的弹性力和由于显影辊的挤压而接收到的力,通过调节单元来支撑片状调节构件。由此,可以与显影剂承载构件进行牢固的接触,并且可以提供一种调节构件,其能够容易地安装到支撑构件上,并能够减小显影装置、处理盒和成像设备的尺寸。 |
申请公布号 |
CN101763012B |
申请公布日期 |
2012.11.14 |
申请号 |
CN200910261677.X |
申请日期 |
2007.06.22 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
西田真一;楸原一成;清水康史;横山胜则;吉岛直人;宇佐美博一 |
分类号 |
G03G15/08(2006.01)I |
主分类号 |
G03G15/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京魏启学律师事务所 11398 |
代理人 |
魏启学 |
主权项 |
一种用于成像设备的显影装置,包括:显影剂承载构件,其能够承载显影剂,用于显影形成于图像承载构件上的静电潜像;保持构件,其具有凹入部分,所述凹入部分沿着所述显影剂承载构件的纵向设置,所述凹入部分具有底面和位于其横向上的两端处的侧面;和片状调节构件,其与所述显影剂承载构件接触并能够调节由所述显影剂承载构件承载的显影剂的量,所述片状调节构件包括:第一接触部分,其由所述凹入部分支撑在所述片状调节构件的在横向上的一端侧处,所述第一接触部分具有第一平表面部分和与所述第一平表面部分相交的第一端面部分;第二接触部分,其由所述凹入部分支撑在所述调节构件的在横向上的另一端侧处,所述第二接触部分具有第二平表面部分和与所述第二平表面部分相交的第二端面部分;和第三接触部分,其在所述调节构件的横向上在所述第一接触部分和所述第二接触部分之间与所述显影剂承载构件进行接触,其中,通过由沿着所述调节构件的纵向在横向上弯曲的所述调节构件产生的弹性力,或者通过由与所述显影剂承载构件接触的所述第三接触部分产生的弹性力,所述第一平表面部分和所述第二平表面部分与所述侧面接触并由所述侧面支撑,并且其中,通过从所述显影剂承载构件接收的由于所述第三接触部分与所述显影剂承载构件进行接触而产生的力,所述第一端面部分和所述第二端面部分与所述底面接触并由所述底面支撑。 |
地址 |
日本东京都大田区下丸子3-30-2 |