发明名称 |
台面型单向负阻二极管芯片 |
摘要 |
本实用新型公开了一种台面型单向负阻二极管芯片。在硅基片其中一面掺杂与硅基片导电类型相反的杂质形成第一扩散层和第一PN结,在第一扩散层表面掺杂与硅基片导电类型相同,但杂质浓度高于第一扩散层掺杂浓度的杂质,形成第二扩散层和第二PN结,第一PN结和第二PN结的间距为2~15微米,暴露在凸台的侧壁上第一PN结和第二PN结的二端外侧设有钝化层,在凸台的台面和硅基片的底面设有金属层。本实用新型具有制造成本较低、制造方法简单、可实现全自动作业方式等特点。 |
申请公布号 |
CN202534653U |
申请公布日期 |
2012.11.14 |
申请号 |
CN201120501677.5 |
申请日期 |
2011.12.06 |
申请人 |
绍兴旭昌科技企业有限公司 |
发明人 |
邓爱民;吴金姿;徐泓;保爱林 |
分类号 |
H01L29/861(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/861(2006.01)I |
代理机构 |
浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 |
代理人 |
徐关寿 |
主权项 |
一种台面型单向负阻二极管芯片,包括硅基片(1),其特征在于:在硅基片(1)其中一面上分别设有第一扩散层(2)和第一PN结(4)以及第二扩散层(3)和第二PN结(5),第一PN结(4)和第二PN结(5)的间距(6)为2~15微米,暴露在凸台(7)的侧壁(8)上第一PN结(4)和第二PN结(5)的二端外侧设有钝化层(9),在凸台(7)的台面(10)和硅基片(1)的底面(11)设有金属层(12)。 |
地址 |
312000 浙江省绍兴市绍兴经济开发区东山路龙山科技园 |