发明名称 工作台系统、包括这种工作台系统的光刻设备及校正方法
摘要 本发明公开了一种工作台系统、包括该工作台系统的光刻设备及一种校正方法。在本发明中,测量工作台位置的位置测量系统包括:参考板;多个传感器,其被设置成依据工作台相对于参考板的位置,多个传感器的至少一个子集与参考板协作,为子集内的每个传感器提供分别代表各个传感器相对于参考板的位置的各个传感器信号;和用来从传感器信号确定工作台位置的处理器,其配置成当工作台处于这样一个位置时,即在该位置上,由与参考板协作的传感器的至少一个子集提供超过确定用数目的传感器信号,(a)从超过确定用数目的传感器信号的子集确定工作台位置,并且(b)由确定的工作台位置与剩余的传感器信号之间的偏差,校正一个或多个传感器的传感器信号。
申请公布号 CN101487979B 申请公布日期 2012.11.14
申请号 CN200810191143.X 申请日期 2008.11.20
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 W·H·G·A·考恩;E·J·M·尤森;E·A·F·范德帕斯卡
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王波波
主权项 一种工作台系统,包括:可移动工作台;和测量所述可移动工作台的位置的位置测量系统,所述位置测量系统包括:4个相邻定位的参考板;4个传感器,其中依据所述可移动工作台相对于所述参考板的位置,所述4个传感器的至少一个子集被配置成与所述参考板协作,以提供分别代表各个传感器相对于所述参考板的位置的各个传感器信号;和设置用来从所述传感器信号确定工作台位置的处理器,所述处理器被配置成当所述工作台处于这样一个位置时,即在该位置上,由与所述参考板协作操作的所述传感器的所述至少一个子集提供超过确定用数目的传感器信号,(a)从所述超过确定用数目的传感器信号的子集确定所述工作台位置,并且(b)由所述确定了的工作台位置与剩余的传感器信号之间的偏差,校正一个或多个传感器的传感器信号;所述处理器被设置用来确定所述校正至少两次,其中每一次,所述可移动工作台相对于所述参考板都处于不同的位置,所述处理器被设置用来从所述处于不同位置的确定了的校正之间的差,确定对所述参考板的膨胀的估计。
地址 荷兰维德霍温