发明名称 一种溅射靶材
摘要 本实用新型公开了属于溅射靶材技术领域的一种溅射靶材。所述背板具有一凹槽,该凹槽为圆柱形凹槽或者为直径向内侧逐渐减小的阶梯式凹槽,该凹槽用以容纳靶坯的嵌入,所述靶坯具有一凸起,该凸起为圆柱形凸起或者为直径向内侧逐渐减小的阶梯式凸起,该凸起与背板上的凹槽相对应,用以嵌入相应的背板中,所述靶坯的凸起嵌入所述背板的凹槽内。本实用新型能够最大量的提高靶材的有效溅射厚度,延长靶材的溅射寿命。本实用新型的溅射靶材因靶厚度的加深,使得靶材的寿命提高了至少30%,具有非常好的实际意义。
申请公布号 CN202530154U 申请公布日期 2012.11.14
申请号 CN201220091436.2 申请日期 2012.03.12
申请人 北京有色金属研究总院;有研亿金新材料股份有限公司 发明人 高岩;何金江;郭力山;曾浩
分类号 C23C14/34(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人 薄观玖
主权项 一种溅射靶材,包括靶材和背板,其特征在于:所述背板具有一凹槽,该凹槽为圆柱形凹槽或者为直径向内侧逐渐减小的阶梯式凹槽,该凹槽用以容纳靶坯的嵌入,所述靶坯具有一凸起,该凸起为圆柱形凸起或者为直径向内侧逐渐减小的阶梯式凸起,该凸起与背板上的凹槽相对应,用以嵌入相应的背板中,所述靶坯的凸起嵌入所述背板的凹槽内。
地址 100088 北京市西城区新街口外大街2号