用于处理基板的设备和方法

摘要

一种基板处理设备包括：腔，其限定了生成活性基的生成空间和对基板实施处理的处理空间；第一供应件，其被设置为向该生成空间内供应第一源气体；上部等离子体源，其被设置为在该生成空间中产生电场以从第一源气体生成活性基；第二供应件，其被设置为向该处理空间内供应第二源气体；以及下部等离子体源，其被设置为在该处理空间中产生电场。该上部等离子体源包括被设置为包裹该腔的侧面的第一段和第二段。该第一和第二段在该腔的垂直方向上交替地布置。

主权项

一种基板处理设备，该基板处理设备包括：腔，其限定了生成活性基的生成空间和对基板实施处理的处理空间，该生成空间位于该处理空间的上方；第一供应件，其被设置为向该生成空间内供应第一源气体；上部等离子体源，其被设置为在该生成空间中产生电场以从第一源气体生成活性基；第二供应件，其被设置为向该处理空间内供应第二源气体；以及下部等离子体源，其被设置为在该处理空间中产生电场，其中，所述上部等离子体源包括被设置为包裹所述腔的侧面的第一段和第二段，并且该第一段和第二段在所述腔的垂直方向上交替地布置。