金属栅极形成方法

摘要

本发明公开了一种金属栅极形成方法，在形成金属硅化物层之后形成CESL应力层和层间介质层，并平坦化所述层间介质层直至暴露无定形碳栅极顶面的CESL应力层，随后去除所述无定形碳栅极顶面的CESL应力层，如此，将应力记忆技术应用到金属栅极的制造过程中，记忆在栅极结构中的应力仍然会传导到沟道之中，有利于提高载流子迁移率。

主权项

一种金属栅极形成方法，包括：提供一衬底，所述衬底上形成有无定形碳栅极以及围绕所述无定形碳栅极的侧墙，所述衬底中形成有源极和漏极；在所述源极和漏极上形成金属硅化物层；在所述衬底上形成CESL应力层并执行退火工艺；在所述CESL应力层上形成层间介质层；平坦化所述层间介质层直至暴露所述无定形碳栅极顶面的CESL应力层；去除所述无定形碳栅极顶面的CESL应力层；去除所述无定形碳栅极，在所述层间介质层内形成沟槽；以及形成填充所述沟槽且覆盖所述层间介质层的金属层。