发明名称 |
一种陶瓷表面选择性金属化方法和一种陶瓷及其应用 |
摘要 |
本发明提供了一种陶瓷表面选择性金属化方法,包括以下步骤:A.将陶瓷组合物成型、烧制得到陶瓷基材;所述陶瓷组合物包括陶瓷粉体和分散于陶瓷粉体中的功能粉体;所述功能粉体选自M的氧化物、氮化物、氧氮化物、碳化物或M单质中的一种或多种;陶瓷粉体选自E的氧化物、氮化物、氧氮化物、碳化物中的一种或多种;B.采用能量束辐射陶瓷基材表面的选定区域,在选定区域形成化学镀活性中心;C.对经过步骤B的陶瓷基材表面进行化学镀,选定区域形成金属层。本发明还提供了一种陶瓷。本发明的陶瓷表面通过化学镀形成金属镀层,镀层与陶瓷基材的附着力较高,成本较低。 |
申请公布号 |
CN102775195A |
申请公布日期 |
2012.11.14 |
申请号 |
CN201110123029.5 |
申请日期 |
2011.05.13 |
申请人 |
比亚迪股份有限公司 |
发明人 |
宫清;林信平;任永鹏;张保祥 |
分类号 |
C04B41/88(2006.01)I |
主分类号 |
C04B41/88(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种陶瓷表面选择性金属化方法,其特征在于,包括以下步骤:A.将陶瓷组合物成型、烧制得到陶瓷基材;所述陶瓷组合物包括陶瓷粉体和分散于陶瓷粉体中的功能粉体;所述功能粉体选自M的氧化物、氮化物、氧氮化物、碳化物或M单质中的一种或多种,M为铈、镨、钕、钷、钐、铕、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱或镥;陶瓷粉体选自E的氧化物、氮化物、氧氮化物、碳化物中的一种或多种,E为锂、钠、钾、铷、铯、铍、镁、钙、锶、钡、硼、铝、镓、硅、锗、磷、砷、钪、钇、锆、铪或镧;B.采用能量束辐射陶瓷基材表面的选定区域,在选定区域形成化学镀活性中心;C.对经过步骤B的陶瓷基材表面进行化学镀,选定区域形成金属层。 |
地址 |
518118 广东省深圳市坪山新区比亚迪路3009号 |