曝光方法及曝光装置、载置台装置、及设备制造方法

摘要

一种曝光方法及曝光装置、载置台装置、及设备制造方法。为了在对一个晶片载置台(WST1)上的晶片进行曝光动作的同时进行两个晶片载置台(WST1、WST2)的替换，使另一个晶片载置台(WST2)暂时位于一个晶片载置台的下方，通过包含该步骤，可以在对一个晶片载置台上的晶片进行曝光动作的同时进行两个晶片载置台的替换动作(交换动作)，上述两个晶片载置台的替换动作基于使另一个晶片载置台暂时位于该一个晶片载置台的下方的方式，这样一来，与从对一个晶片载置台上的晶片的曝光动作结束的时刻开始进行两个晶片载置台的替换动作时相比，可在短时间内进行该替换。

主权项

一种曝光方法，交互地对分别保持在两个基板载置台上的基板进行曝光处理，其特征在于，包括以下步骤：在对一个基板载置台上的基板进行曝光动作之后对另一个基板载置台上的基板进行曝光动作时，使保持结束了上述曝光动作的基板的上述一个基板载置台暂时位于保持接下来进行曝光动作的基板的上述另一个基板载置台的下方；在对保持在上述一个基板载置台上的基板进行了曝光动作之后对保持在上述另一个基板载置台上的基板进行曝光动作时，检测出固定在上述另一个基板载置台上的基板上形成的标记后将上述另一个基板载置台配置于进行上述曝光处理的位置；使在进行上述曝光动作时上述两个基板载置台在其上部移动的移动面和检测上述标记时上述两个基板载置台在其上部移动的移动面为同一高度；利用第1线性电机使上述一个基板载置台沿着上述移动面移动，该第1线性电机包括固定件以及设于上述一个基板载置台上且能够相对于上述固定件移动的第1可动件；以及利用第2线性电机使上述另一个基板载置台沿着上述移动面移动，该第2线性电机包括上述固定件和设于上述另一个基板载置台上且能够相对于上述固定件移动的第2可动件，其中，上述一个基板载置台与上述第1可动件一起暂时位于上述另一个基板载置台的下方。