成膜装置和成膜方法

摘要

本发明提供成膜装置和成膜方法。该成膜装置包括：真空容器，按顺序向其内部多次供给第一处理气体和第二处理气体；旋转台，其具有包括基板载置区域在内的一个表面，使基板载置区域在真空容器内旋转；第一处理气体供给部，向第一区域供给第一处理气体；第二处理气体供给部，向在上述旋转台的周向上隔着分离区域与第一区域分开的第二区域供给第二处理气体；等离子体产生气体供给部，向上述真空容器内供给等离子体产生用气体；天线，其与上述旋转台的上述一个表面相对，利用电感耦合使上述等离子体产生用气体在等离子体空间内产生等离子体；法拉第屏蔽件，其接地，设在上述天线与上述等离子体空间之间，具有在与上述天线正交的方向上排列的多个狭缝。

主权项

一种成膜装置，其中，该成膜装置包括：真空容器，按顺序向其内部多次供给第一处理气体和第二处理气体；旋转台，其具有包括基板载置区域在内的一个表面，并且在上述真空容器内旋转；第一处理气体供给部，其用于向第一区域供给上述第一处理气体；第二处理气体供给部，其用于向在上述旋转台的周向上隔着分离区域与上述第一区域分开的第二区域供给上述第二处理气体；等离子体产生气体供给部，其用于向上述真空容器内供给等离子体产生用气体；天线，其与上述旋转台的上述一个表面相对，用于利用电感耦合来使上述等离子体产生用气体在等离子体空间内产生等离子体；法拉第屏蔽件，其接地，设在上述天线与上述等离子体空间之间，并且具有在与上述天线正交的方向上排列的多个狭缝。