发明名称 一种集成了采样电阻的电流检测LDMOS器件
摘要 一种集成了采样电阻的电流检测LDMOS器件,属于半导体功率器件技术领域。包括集成于同一半导体芯片的主功率LDMOS器件(100)、电流检测LDMOS器件(101)和采样电阻(102)。通过控制主功率LDMOS器件和电流检测LDMOS器件的沟道区宽度之比实现电流采样;主功率LDMOS器件和电流检测LDMOS器件共用漏极结构以节省芯片面积;短接主功率LDMOS器件和电流检测LDMOS器件各自的P+接触区和N+接触区,并且将电流检测LDMOS器件的P型体区做在一个N阱中、使得电流检测LDOMS器件的P型体区与衬底完全隔离,实现了电流检测LDMOS器件的源极电压浮动且消除了衬底去偏置效应;另外将采样电阻同时集成可避免外接采样电阻带来的噪声影响,使得电流检测LDMOS器件对主功率LDMOS器件电流进行准确采样。
申请公布号 CN102779821A 申请公布日期 2012.11.14
申请号 CN201210268621.9 申请日期 2012.07.31
申请人 电子科技大学 发明人 乔明;温恒娟;向凡;何逸涛;周锌;张波;李肇基
分类号 H01L27/08(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/08(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;G01R19/00(2006.01)I 主分类号 H01L27/08(2006.01)I
代理机构 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人 温利平
主权项 一种集成了采样电阻的电流检测LDMOS器件,包括主功率LDMOS器件(100)、电流检测LDMOS器件(101)和采样电阻(102),所述主功率LDMOS器件(100)、电流检测LDMOS器件(101)和采样电阻(102)集成于同一半导体芯片上;所述电流检测LDMOS器件(101)的沟道区宽度为W2,所述主功率LDMOS器件(100)的沟道区宽度为W1,其中W1>>W2,电流检测LDMOS器件(101)的电流能力与主功率LDMOS器件(100)的电流能力之比为W2/W1;所述主功率LDMOS器件(100)和电流检测LDMOS器件(101)采用共同的漏极结构,即采用同一N+漏极区(4)和金属化漏极(11);所述电流检测LDMOS器件(101)的P型体区(12)做在一个N型阱区(3)中,使得电流检测LDMOS器件(101)的P型体区(12)与半导体衬底(1)相互隔离,以实现电流检测LDMOS器件(101)的源极电压浮动;所述主功率LDMOS器件(100)和电流检测LDMOS器件(101)各自的源极P+接触区(5)和源极N+接触区(6)与各自的源极金属(10、13)连接,以消除衬偏效应;所述采样电阻(102)的一端与主功率LDMOS器件的源极金属(10)相连,另一端与电流检测LDMOS器件(101)的源极金属(13)相连。
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