投影曝光装置

摘要

本发明提供一种投影曝光装置，该投影曝光装置缩短了伴随基板的更换的遮光体的取出和再设置所需要的时间，并具有对应于多样的遮光区域的简易的遮光体。投影曝光装置(100)向掩膜照射包含紫外线的光线，借助于投影光学系由通过掩膜的光线对涂布了负性光致抗蚀剂的基板进行曝光。该投影曝光装置具有：至少2个用于遮蔽光线的第1遮光体(84)；以及使第1遮光体从基板的外侧向基板的中心移动的第1移动部(82、83、86)，并且在使第1遮光体向基板的中心移动时，第1遮光体对基板的整个周边部进行遮光。

主权项

一种投影曝光装置，该投影曝光装置向掩膜照射包含紫外线的光线，借助于投影光学系由通过所述掩膜的光线对涂布了负性光致抗蚀剂的基板进行曝光，其特征在于，具有：至少2个用于遮蔽所述光线的第1遮光体；以及与所述第1遮光体连结，使所述第1遮光体不横越所述基板的曝光区域、从所述基板的外侧向所述基板的中心移动的第1移动部，在使所述第1遮光体从所述基板的外侧向所述基板的中心移动时，所述第1遮光体对所述基板的整个周边部进行遮光。