发明名称 |
Revestimiento basado en plata resistente a la sulfuración, procedimiento de depósito y utilización |
摘要 |
Revestimiento en material basado en plata que comprende un apilamiento de una capa principal (1) y de una película delgada oxidada (2), caracterizado porque la película delgada oxidada (2) tiene un espesor comprendido entre 10 nm y 1 !my porque presenta un gradiente de concentración de plata decreciente desde la interfase (3) entre la película delgada (2) y la capa principal (1) hasta la superficie libre (2a) de la película delgada (2) .
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申请公布号 |
ES2390350(T3) |
申请公布日期 |
2012.11.12 |
申请号 |
ES20060354036T |
申请日期 |
2006.11.08 |
申请人 |
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIESALTERNATIVES |
发明人 |
CAMEL, DENIS;BEDEL, LAURENT;SANCHETTE, FREDERIC;DUCROS, CEDRIC |
分类号 |
C23C14/16;C23C14/00;C23C14/06;C23C14/14 |
主分类号 |
C23C14/16 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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