发明名称 均光装置及包含该均光装置之数位光学处理投影系统
摘要 本发明系提供一均光装置及其所应用之数位光学处理投影系统。均光装置包含一入光面、一出光面以及界定于其间之一均光部,其中入光面与出光面分别具有第一外型轮廓及第二外型轮廓,而第二外型轮廓对于一投影平面之一第一投影,相对于第一外型轮廓对于该投影平面之一第二投影,关于均光装置之一纵长轴向实质上形成一旋转角度。藉此,提供成像所需光线之光源可简易地设置于投影系统中,不需随着数位微镜装置而倾斜设置,亦不需额外增加中继透镜,即可透过将光线投射至均光装置后,产生一均匀光束完全涵盖数位微镜装置,以进行成像。
申请公布号 TWI376563 申请公布日期 2012.11.11
申请号 TW097139537 申请日期 2008.10.15
申请人 台达电子工业股份有限公司 发明人 周清文;道格拉斯M 包顿;汤姆 海文;罗夫 瓦庭
分类号 G03B21/14 主分类号 G03B21/14
代理机构 代理人 陈翠华 台北市松山区南京东路3段261号6楼
主权项 一种均光装置,用于一数位光学处理(Digital Light Processing, DLP)投影系统中,包含:一入光面,具有一第一外型轮廓;一出光面,与该入光面实质上平行,其具有一第二外型轮廓,与该第一外型轮廓实质上相同;以及一均光部,界定于该入光面及该出光面之间;其中,该第二外型轮廓对于一投影平面之一第一投影,相对于该第一外型轮廓对于该投影平面之一第二投影,关于该均光装置之一纵长轴向,实质上形成一旋转角度。如请求项1所述之均光装置,其中该旋转角度系不大于90°。如请求项1所述之均光装置,其中该入光面之该第一外型轮廓与该出光面之该第二外型轮廓均为一矩形,且具有实质相同之一比例。如请求项1所述之均光装置,其中该入光面之该第一外型轮廓与该出光面之该第二外型轮廓均为一矩形,且该第二外型轮廓系为该第一外型轮廓之一放大比例。如请求项1所述之均光装置,其中该均光部系由复数个连续外表面所组合而成。如请求项5所述之均光装置,其中各该外表面系一三角形表面。如请求项1所述之均光装置,其中该均光装置系为一实心积分柱(integration rod)以及一空心积分柱其中之一,该空心积分柱具有一壳体及形成于该壳体中之一光通道(lighttunnel)。如请求项7所述之均光装置,其中该实心积分柱之一外表面镀有一反射膜。如请求项7所述之均光装置,其中该空心积分柱之壳体之一内表面镀有一反射膜。如请求项1所述之均光装置,其中该均光装置之材质系选自石英(Quartz)、玻璃及塑胶所组成之群组。一种数位光学处理(Digital Light Processing,DLP)投影系统,包含:一照明子系统,提供一均匀之光束,该照明子系统具有:复数光源:及如请求项1所述之均光装置,其中该复数光源之光线之至少一部份,系自该均光装置之入光面进入该均光装置,并经由该均光部之均匀化后,由该均光装置之出光面投射出该均匀之光束;一成像子系统,具有:一数位微镜装置(DMD),及一投影镜头,其中该均匀之光束系实质上得以完全涵盖该数位微镜装置。
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