| 主权项 |
一种扫描浸没曝光设备，包括：一投射光学系统；复数架台，其被组构成随着一安装在其上面之基板运动；及一液体供给单元，其被组构成将液体供给至该投射光学系统下面之架台上的区域，并回收所供给之液体，其中该等架台之至少一者包括一运送部分，其被组构成能够使该区域被从该架台移至另一架台，一承接部分，其被组构用于承接来自另一架台的该区域，及一参考记号，其设在该架台上，用以关于一光罩定位该架台，及其中该运送部分系设置成关于第一线而在与该参考记号相反的侧面上，该第一线通过该基板之中心且垂直于一扫描方向而延伸，和其中该承接部分系设置成关于该第一线而在与该参考记号相同的侧面上。如申请专利范围第1项之扫描浸没曝光设备，其中该架台包括第二参考记号，该第二参考记号系在一垂直于该扫描方向之方向中与该参考记号隔开。一种浸没曝光设备，包括：一投射光学系统；复数架台，其被组构成随着一安装在其上面之基板运动；及一液体供给单元，其被组构成将液体供给至该投射光学系统下面之架台上的区域，并回收所供给之液体，其中该等架台之至少一者包括一运送部分，其被组构成能够使该区域被从该架台移至另一架台，及一承接部分，其被组构成承接来自该另一架台之该区域，及其中该运送部分与该承接部分被设置在不同位置。如申请专利范围第3项之浸没曝光设备，其中该曝光设备系一扫描曝光设备，其中该架台包括设在该架台上之参考记号，用以关于一光罩定位该架台，及其中该运送部分系设置成关于第一线而在与该参考记号相反的侧面上，该第一线通过该基板之中心且垂直于一扫描方向而延伸。一种使用如申请专利范围第1项之曝光设备的曝光方法，其中一将在该基板上最后曝光之拍摄区域系在与紧接在曝光之前关于该第一线所测量的该一或多个参考记号之一相反的侧面上。如申请专利范围第5项之曝光方法，其中一将在该基板上首先曝光之拍摄区域系关于该第一线而在与该参考记号相同的侧面上。一种用于扫描浸没曝光设备之曝光方法，该扫描浸没曝光设备包括一投射光学系统、被组构成随着安装在其上面之基板运动的复数架台、及一被组构成将液体供给至该投射光学系统下面之架台上的区域并回收所供给之液体的液体供给单元，该等架台之至少一者包括一被组构成能够使该区域被从该架台移至另一架台、及由该另一架台承接该区域之运送/承接部分，该方法包括以下步骤：在与该运送/承接部分相同之侧面上，关于通过该基板之中心与延伸垂直于该扫描方向的一线，设定一将在该基板上首先曝光之拍摄区域、与一将在该基板上最后曝光之拍摄区域；及基于所设定之拍摄区域使该基板曝光。一种装置制造方法，包括以下步骤：使用根据申请专利范围第1至4项中之一项的曝光设备使一基板曝光；及使该经曝光之基板显影。一种装置制造方法，包括以下步骤：使用根据申请专利范围第7项之曝光方法使一基板曝光；及使该经曝光之基板显影。 |
