发明名称 镭射雕刻系统及采用其进行镭射雕刻之方法
摘要 本发明公开了一种镭射雕刻系统及采用其进行镭射雕刻之方法,该镭射雕刻系统用以对待雕刻产品进行雕刻,其包括一图像编辑处理器、一雕刻控制单元、一机械手及一镭射发射装置,该图像编辑处理器用以建立待雕刻产品之模型并对该模型分区,生成各分区雕刻之2D图案及确定各分区之位置参数,并将该2D图案讯号及该位置参数讯号输出到该雕刻控制单元,该雕刻控制单元与该图像编辑处理器电连接,其根据接收之该2D图案讯号控制该镭射发射装置及根据该位置参数讯号控制该机械手,该机械手与该雕刻控制单元电连接,其用于对该待雕刻产品之位置定位,该镭射发射装置与该雕刻控制单元电连接,其用于发射镭射以对该待雕刻产品进行雕刻。
申请公布号 TWI376283 申请公布日期 2012.11.11
申请号 TW096121745 申请日期 2007.06.15
申请人 富士康()有限公司 发明人 张松;付雄波
分类号 B23K26/00 主分类号 B23K26/00
代理机构 代理人 虞彪 台北市中山区长安东路1段21号3楼
主权项 一种镭射雕刻系统,用以对待雕刻产品进行雕刻,其包括:一图像编辑处理器,其用以建立待雕刻产品之模型并对该模型分区,该图像编辑处理器还将所要雕刻的图案呈现在该模型上并分别对各分区取基准面,将各分区的3D图案投影到其对应的基准面上而生成2D图案并确定各分区之位置参数,并将该2D图案信号及该位置参数信号输出到一雕刻控制单元;一雕刻控制单元,其与该图像编辑处理器电连接,其根据接收之该2D图案信号控制一镭射发射装置及根据该位置参数信号控制一机械手;一机械手,其与该雕刻控制单元电连接,其用于对该待雕刻产品之位置定位;及一镭射发射装置,其与该雕刻控制单元电连接,其用于发射镭射以对该待雕刻产品进行雕刻。如申请专利范围第1项所述之镭射雕刻系统,其中所述之图像编辑处理器包括一图形编辑软体,该图像编辑处理器通过该图形编辑软体建立一虚拟工件坐标系。如申请专利范围第2项所述之镭射雕刻系统,其中所述之图形编辑软体依据工件坐标系之取向而建立该虚拟工件坐标系,该工件坐标系系以该雕刻产品之一点为原点而建立之笛卡尔坐标系。如申请专利范围第2项所述之镭射雕刻系统,其中所述之图形编辑软体以该虚拟工件坐标系为坐标系,根据该待雕刻产品之形状特征建立该待雕刻产品之所述模型。如申请专利范围第4项所述之镭射雕刻系统,其中所述之图形编辑软体依据工具坐标系之取向而建立一虚拟工具坐标系,该工具坐标系系以镭射发射装置发射之镭射之焦平面为座标平面建立之笛卡尔坐标系。如申请专利范围第5项所述之镭射雕刻系统,其中所述之图形编辑软体通过确定该虚拟工件坐标系之原点相对于该虚拟工具坐标系之原点之位置参数来确定各分区之位置参数。如申请专利范围第6项所述之镭射雕刻系统,其中所述之图形编辑软体分别使每一该基准面和该虚拟工具坐标系中与该镭射雕刻系统之雕刻区域对应之座标平面平行,从而对确定各分区对应之该虚拟工件坐标系之原点相对于该虚拟工具坐标系之原点之位置参数。如申请专利范围第1项所述之镭射雕刻系统,其中所述之雕刻控制单元包括一镭射控制单元和一机械手控制单元,该镭射控制单元和该机械手控制单元分别与该图像编辑处理器电连接,该镭射控制单元接收该2D图案信号,该机械手控制单元接收该位置参数信号。如申请专利范围第8项所述之镭射雕刻系统,其中所述之镭射控制单元与该镭射发射装置电连接,该镭射控制单元根据该2D图案信号控制该镭射发射装置之雕刻频率、强度、速度及雕刻轨迹。如申请专利范围第8项所述之镭射雕刻系统,其中所述之机械手控制单元与该机械手电连接,该机械手控制单元根据该位置参数信号控制该机械手之运行轨迹。如申请专利范围第8项所述之镭射雕刻系统,其中所述之镭射控制单元和该机械手控制单元通过一I/O介面连接来实现该机械手与该镭射发射装置之间之通讯。一种采用如申请专利范围第2项所述之镭射雕刻系统之镭射雕刻方法,包括以下步骤:将该待雕刻产品固定于该机械手上;通过该图像编辑处理器建立该待雕刻产品之模型并对该模型分区,该图像编辑处理器还将所要雕刻的图案呈现在该模型上并分别对各分区取基准面,将各分区的3D图案投影到其对应的基准面上而生成2D图案并确定各分区之位置参数之步骤;该图像编辑处理器将该2D图案信号及该位置参数信号输出到该雕刻控制单元之步骤;该雕刻控制单元根据该图像编辑处理器输出之各分区之该位置参数信号控制该机械手而对该待雕刻产品之各分区进行定位之步骤;该雕刻控制单元根据该图像编辑处理器输出之该2D图案信号控制该镭射发射装置而对该待雕刻产品之各分区进行镭射雕刻之步骤。如申请专利范围第12项所述之镭射雕刻方法,其中所述之图像编辑处理器建立该模型之前,还包括该图像编辑处理器依据工件坐标系之取向而建立一虚拟工件坐标系之步骤,该工件坐标系系以该雕刻产品之一点为原点而建立之笛卡尔坐标系。如申请专利范围第13项所述之镭射雕刻方法,其中所述之图像编辑处理器以该虚拟工件坐标系为坐标系,根据该待雕刻产品之形状特征建立该待雕刻产品之所述模型。如申请专利范围第14项所述之镭射雕刻方法,其中所述之图像编辑处理器于确定个分区之位置参数之前,还包括该图像编辑处理器依据工具坐标系之取向而建立一虚拟工具坐标系之步骤,该工具坐标系系以镭射发射装置发射之镭射之焦平面为座标平面建立之笛卡尔坐标系。如申请专利范围第15项所述之镭射雕刻方法,其中所述之位置参数之确定系通过该图像编辑处理器分别使每一该基准面和该虚拟工具坐标系中与该镭射雕刻系统之雕刻区域对应之座标平面平行,从而对确定各分区对应之该虚拟工件坐标系之原点相对于该虚拟工具坐标系之原点之位置参数,从而通过确定该虚拟工件坐标系之原点相对于该虚拟工具坐标系之原点之位置参数来确定各分区之该位置参数。
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