| 主权项 |
一种硬质表面用洗净剂，其特征为含有：(a)含有以下列一般式(1)所表示之构成单位(a1)、以下列一般式(2)所表示之结构单元(a2)、及以下列一般式(3)所表示之结构单元(a3)之高分子化合物，(b)界面活性剂，以及(c)水，@sIMGTIF!d10001.TIF@eIMG!@sIMGTIF!d10002.TIF@eIMG!-X- (3)式中，R为碳数1~3之烷基，X为来自于分子中具有阳离子基且可与乙烯醇低级脂肪酸酯共聚之不饱和化合物之结构单元。如请求项1之硬质表面用洗净剂，其中于(a)之结构单元中，结构单元(a1)、结构单元(a2)及结构单元(a3)之合计为50~100莫耳%。如请求项1之硬质表面用洗净剂，其中于(a)之结构单元中，结构单元(a3)之合计为0.001~10莫耳%。如请求项2之硬质表面用洗净剂，其中于(a)之结构单元中，结构单元(a3)之合计为0.001~10莫耳%。如请求项1之硬质表面用洗净剂，其中于(a)中之结构单元(a1)与结构单元(a2)之莫耳比(a1)/(a2)为1000~1。如请求项2之硬质表面用洗净剂，其中于(a)中之结构单元(a1)与结构单元(a2)之莫耳比(a1)/(a2)为1000~1。如请求项3之硬质表面用洗净剂，其中于(a)中之结构单元(a1)与结构单元(a2)之莫耳比(a1)/(a2)为1000~1。如请求项4之硬质表面用洗净剂，其中于(a)中之结构单元(a1)与结构单元(a2)之莫耳比(a1)/(a2)为1000~1。如请求项1至8中任一项之硬质表面用洗净剂，其中于(a)之结构单元中，结构单元(a3)系来自选自以下列一般式(3-1)所表示之化合物及以下列式(3-2)所表示之化合物中者。@sIMGTIF!d10003.TIF@eIMG!@sIMGTIF!d10004.TIF@eIMG!式中，R1、R2、R3、R7、R8、R9，分别独立为氢原子或碳数1~3之烷基；X1、Y，分别独立为自碳数1~12之伸烷基、-COOR12-、-CONHR12-、-OCOR12-、-R13-OCO-R12-中选择之基；于此，R12、R13，分别独立为碳数1~5之伸烷基；R4为碳数1~3之烷基或羟基烷基或R1R2C=C(R3)-X1-；R5为碳数1~3之烷基、或羟基烷基，R6为碳数1~3之烷基、羟基烷基、或苄基，Z-表示阴离子；R10为氢原子、碳数1~3之烷基或羟基烷基或R7R8C=C(R9)-Y-。R11为氢原子、碳数1~3之烷基或羟基烷基。如请求项1至8中任一项之硬质表面洗净剂，其中含有0.001~5质量%之(a)、0.001~20质量%之(b)。一种处理硬质表面之方法，其系藉由将如请求项1~10中任一项之硬质表面用洗净剂使用于硬质表面而进行。一种硬质表面洗净剂用途，其中洗净剂为如请求项1至10中任一项之洗净剂。 |
