用于微影装置之导管系统、微影装置、泵浦及实质上降低导管系统内之振动的方法

摘要

本发明揭示一种用于一微影装置之导管系统，其包括：至少一个导管，其用于导引一液体或液体－气体混合物；及一气体注射喷嘴，其经组态以将一气体引入该液体或液体－气体混合物中，以至少部分吸收该液体或液体－气体混合物中之压力峰或波。在一实施例中，该气体注射喷嘴可配置于该导管系统之一泵浦中。该泵浦进一步包括一泵浦入口、一泵浦出口及一泵浦腔室，该泵浦腔室位于该泵浦入口与该泵浦出口之间且用于压缩该液体或液体－气体混合物。

主权项

一种用于一微影装置之导管系统，该导管系统包含：一导管部分，其经组态以导引一液体或液体-气体混合物；及一气体注射喷嘴，其经组态以将一气体引入该液体或液体-气体混合物中，以至少部分吸收该液体或液体-气体混合物中之压力峰或波，其中该气体注射喷嘴至少部分被导引而通过或延着连接至一泵浦之一出口或一入口之一导管或配合件，该泵浦经组态以抽吸该导管系统之该液体或液体-气体混合物，其中该气体注射喷嘴之排出系于该泵浦出口或该泵浦入口处终止或系于靠近该泵浦出口或该泵浦入口处终止，且其中该气体注射喷嘴为环形或主要为环形，且围绕该泵浦出口配合件或导管之周边而配置。如请求项1之导管系统，其进一步包含该泵浦，该泵浦包含：该泵浦入口；该泵浦出口；及一泵浦腔室，其位于该泵浦入口与该泵浦出口之间，其经配置以压缩该液体或液体-气体混合物，其中该气体注射喷嘴配置于该泵浦中。如请求项2之导管系统，其中该泵浦进一步包含一与该泵浦入口流动连通之入口阀及一与该泵浦出口流动连通之出口阀。如请求项2之导管系统，其中该泵浦腔室包含经组态以增加及减小该泵浦腔室之体积的一压缩元件。如请求项4之导管系统，其中该压缩元件为一薄膜。如请求项2之导管系统，其中该泵浦为一包含一或多个用于压缩该液体或液体-气体混合物之齿轮的齿轮泵浦。如请求项1-6任一项之导管系统，其中该气体注射喷嘴之排出系配置于该泵浦出口中。如请求项1-6任一项之导管系统，其中该气体注射喷嘴之排出系配置于该泵浦之该配合件中。如请求项1-6任一项之导管系统，其中该导管系统为一冷却水回路。如请求项1-6任一项之导管系统，其中该导管系统为一浸没系统之部分。如请求项1-6任一项之导管系统，其中该气体注射喷嘴连接至一加压气体源。如请求项11之导管系统，其中该加压气体之一压力高于该导管系统内之至少在将该气体注射于该液体或液体-气体混合物中之一位置处的一压力。一种用于一微影装置之导管系统，该导管系统包含：一导管，其经组态以导引一液体或液体-气体混合物；及一气体注射喷嘴，其经组态以将一气体引入该液体或液体-气体混合物中，以至少部分吸收该液体或液体-气体混合物中之压力峰或波，其中该气体注射喷嘴至少部分被导引而通过或延着连接至一泵浦之一出口或一入口之一导管或配合件，该泵浦经组态以抽吸该导管系统之该液体或液体-气体混合物，且其中当该气体注射喷嘴之排出配置于该泵浦入口或靠近该泵浦入口时，只有在该泵浦之一泵浦腔室之体积增加的期间，才引入该气体，及/或当该气体注射喷嘴之排出配置于该泵浦出口或靠近该泵浦出口时，只有在该泵浦腔室之体积减少的期间，才引入该气体。一种微影装置，其包含：一基板台，其经构造以固持一基板；一投影系统，其经组态以将一经图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上；及如请求项1-6或13任一项之一导管系统。如请求项14之微影装置，其中该导管系统为一经组态以在一第一物件与一第二物件之间提供一液体之浸没系统的部分，其中该第一物件为该投影系统且该第二物件为一支撑于该基板台上之基板。如请求项14之微影装置，其中该导管系统为一冷却流体系统之部分。如请求项16之微影装置，其中该冷却流体系统包含该基板台之一冷却水回路。一种用于实质上减少一微影装置中之一液体流之一导管系统中之压力波或压力峰的方法，其中由于该导管系统中液体之压缩而产生振动，该方法包含：将气体注射于该液体流中以至少部分吸收该等压力波或压力峰，其中该注射至少部分被导引而通过或延着连接至一泵浦之一出口或一入口之一导管或配合件，该泵浦经组态以抽吸该导管系统之该液体，且其中当该注射之排出在该泵浦入口处终止或靠近该泵浦入口处终止时，只有在该泵浦之一泵浦腔室之体积增加的期间，才执行该注射，及/或当该注射之排出在该泵浦出口处终止或靠近该泵浦出口处终止时，只有在该泵浦腔室之体积减少的期间，才执行该注射。如请求项18之方法，其中该气体为一压缩气体，且经由一气体注射喷嘴而引入，该气体注射喷嘴经配置以于该泵浦之该泵浦出口或靠近该泵浦出口、该泵浦之该泵浦入口或靠近该泵浦入口、该泵浦腔室或靠近该导管系统之一弯曲处或压缩处排出。