发明名称 导电性薄膜
摘要 本发明之课题系提供一种导电性薄膜,其具有透明性及高水准的导电性,使用于不容易产生波纹现象之电磁波屏蔽薄膜等。;为了解决上述问题,揭示以下的发明。;一种导电性薄膜,系在基材薄膜的至少一面,存在不规则网眼结构之导电部,构成前述网眼结构之导电部的线宽为30微米以下,未存在有导电部的部分之面积为50%以上,被导电部的网眼包围之基材薄膜的露出部分,长轴长度/短轴长度比之平均值为1以上3.5以下。
申请公布号 TWI376702 申请公布日期 2012.11.11
申请号 TW094135049 申请日期 2005.10.07
申请人 东丽股份有限公司 发明人 高田育;田中正太郎;大桥纯平
分类号 H01B5/14 主分类号 H01B5/14
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 一种导电性薄膜,系在基材薄膜的至少一面的正上方,存在不规则网眼结构之导电部,构成前述网眼结构之导电部的线宽为30微米以下且不均匀,未存在有导电部的部分之面积为50%以上,被导电部的网眼包围之基材薄膜的露出部分之长轴长度/短轴长度比之平均值为1.2以上3.5以下。如申请专利范围第1项之导电性薄膜,其中该不规则网眼结构之导电部系藉由在基材薄膜涂布导电部形成用溶液之步骤,进而乾燥前述溶液之步骤而得到之物。如申请专利范围第1项之导电性薄膜,其中该导电部系含有导电性聚合物及/或导电性粒子。如申请专利范围第1项之导电性薄膜,其中该导电性薄膜的导电部系包括含有导电性聚合物及/或导电性粒子之层、以及设置于该层上的金属层。如申请专利范围第4项之导电性薄膜,其中该形成金属层的金属系以铜为主要构成成分。如申请专利范围第5项之导电性薄膜,其系电磁波屏蔽薄膜。
地址 日本