制造含有光可固化基团之低黏性脲甲酸类之方法

摘要

本发明系提供一种方法，用于制造辐射固化之脲甲酸酯，其具有残留单体含量低于0.5重量%，与NCO含量低于1重量%。其中(A)包含异氰酸酯基团之化合物，(B)羟基官能性化合物，其包含基团，当暴露于光辐射下，会与烯性不饱和化合物进行含聚合作用之反应者(辐射固化基团)，与(C)选择地其他包含NCO-反应性基团之化合物，亦选择地于一种催化剂之存在下，被用于生成具有辐射固化基团之包含NCO基团之胺基甲酸酯，其随后于一种脲甲酸酯反应催化剂之存在下进行反应，未另外添加包含异氰酸酯基团之化合物，得自A)化合物之NCO基团对于得自B)化合物之OH基团与C)，当其被使用时，之比率为1.45：1.0至1.1：1.0。

主权项

一种用于制备辐射固化之脲甲酸酯之方法，其具有残留单体含量低于0.5重量%，与NCO含量低于1重量%，其中(A)包含异氰酸酯基团之化合物，与(B)羟基官能性化合物，其包含基团，当暴露于光辐射下，会与烯性不饱和化合物进行含聚合作用之反应者，被用于生成具有辐射固化基团之包含NCO基团之胺基甲酸酯，其随后未另外添加包含异氰酸酯基团之化合物，于下者之存在下进行反应，(E)脲甲酸反应催化剂，得自A)化合物之NCO基团对于得自B)化合物之OH基团之比率为1.45：1.0至1.1：1.0。根据申请专利范围第1项之用于制备辐射固化之脲甲酸酯之方法，其中进一步使用(C)其他包含NCO-反应性基团之化合物于生成具有辐射固化基团之包含NCO基团之胺基甲酸酯，得自A)化合物之NCO基团对于得自B)化合物之OH基团与C)之比率为1.45：1.0至1.1：1.0。。根据申请专利范围第1项之用于制备辐射固化之脲甲酸酯之方法，其系在(D)催化剂之存在下进行反应。根据申请专利范围第1项之用于制备辐射固化之脲甲酸酯之方法，其中于组份A)使用：六亚甲基二异氰酸酯(HDI)、异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)、与/或4,4’-二异氰酸根二环己基甲烷。根据申请专利范围第1项之用于制备辐射固化之脲甲酸酯之方法，其中于组份B)使用：(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸羟基丙酯、与/或(甲基)丙烯酸羟基丁酯。根据申请专利范围第2项之用于制备辐射固化之脲甲酸酯之方法，其中得自A)化合物之NCO基团对于得自B)化合物之OH基团与C)之比率为1.35：1.0至1.3：1.0。根据申请专利范围第1项之用于制备辐射固化之脲甲酸酯之方法，其中催化剂E)于一200至600 ppm/小时之速率加入。根据申请专利范围第1项之用于制备辐射固化之脲甲酸酯之方法，其中脲甲酸酯反应持续进行，直至最终产物具有一NCO含量为低于0.1重量%。一种辐射固化之脲甲酸酯，其可藉一种根据申请专利范围第1项之方法获得。一种根据申请专利范围第9项之辐射固化之脲甲酸酯之用途，用于制备：涂料、涂覆物料、黏着剂、印刷油墨、铸塑用树脂、牙用混合料、上浆剂、光阻剂、立体石印系统、用于复合材料之树脂、与密封剂。一种涂覆组成物，其包括：a)一种或多种根据申请专利范围第9项之辐射固化之脲甲酸酯，与e)引发剂。根据申请专利范围第11项之涂覆组成物，其进一步包括：b)一种或多种包含游离或嵌段异氰酸酯基团之聚异氰酸酯，其不含基团，当暴露于光辐射下，会与烯性不饱和化合物进行含聚合作用之反应者。根据申请专利范围第11项之涂覆组成物，其进一步包括：c)其他不同于a)者之化合物，其包含基团，当暴露于光辐射下，会与烯性不饱和化合物进行含聚合作用之反应者。根据申请专利范围第13项之涂覆组成物，其中成分c)包含游离或嵌段之NCO基团。根据申请专利范围第11项之涂覆组成物，其进一步包括：d)一种或多种包含活性氢之异氰酸酯-反应性化合物。根据申请专利范围第11项之涂覆组成物，其进一步包括：f)溶剂。根据申请专利范围第11项之涂覆组成物，其进一步包括：g)助剂与添加剂。一种以涂覆物涂覆之基材，其可使用根据申请专利范围第9项之辐射固化之脲甲酸酯获得。