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Substratverarbeitungssystem umfassend: eine geerdete Verarbeitungskammer (10; 111); einen Substrathalter (12), der in der Verarbeitungskammer (10; 111) angeordnet ist und ein Substrat (14; 116) trägt; eine Gasquelle (54; 126, 128), die mit der Verarbeitungskammer (10; 111) verbunden ist, um Prozessgas der Verarbeitungskammer (10; 111) zuzuführen; eine Ionenquelle (20, 22; 115) zur Ionisierung des Prozessgases zur Erzeugung von Ionen zur Bearbeitung einer Oberfläche des Substrats (14; 116), das auf dem Substrathalter (12) gegenüber der Ionenquelle (20, 22; 115) angeordnet ist, wobei die Ionenquelle (20, 22; 115) eine erste Anode (30; 112) und eine erste Elektronenquelle (32; 113) umfasst; eine Strom- und Potentialquelle (19, 50; 118, 121, 123), um die erste Anode (30; 112), die erste Elektronenquelle (32; 113) und das Substrat (14; 116) vorzuspannen, so dass die erste Anode (30; 112) auf (12) angeordnetes Substrat (14; 116) auf ein von...
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