发明名称 Ionenstrahlvorrichtung
摘要 Bereitgestellt wird eine Ionenstrahlvorrichtung mit einer Gas/Elektro-Feldionisations-Ionenquelle, die das Schwingen einer Emitterspitze in berührungsloser Weise verhindern kann. Die Gas/Elektro-Feldionisations-Ionenquelle besteht aus einer Emitterspitze (21) zum Erzeugen von Ionen, einem Emittersockel (64), auf dem die Emitterspitze ruht, einer Ionisationskammer mit einer Extraktionselektrode (24), die der Emitterspitze gegenüberliegt und so beschaffen ist, dass sie die Emitterspitze (21) umgibt, und einem Gaszufuhrrohr (25) zum Zuführen von Gas in die Nähe der Emitterspitze. Der Emittersockel und ein Vakuumbehälter stehen in magnetischer Zusammenwirkung miteinander.
申请公布号 DE112010000799(T5) 申请公布日期 2012.11.08
申请号 DE201011000799T 申请日期 2010.01.08
申请人 HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 发明人 SHICHI, HIROYASU;MATSUBARA, SHINICHI;SAHO, NORIHIDE;ISHITANI, TOHRU;ARAI, NORIAKI
分类号 H01J27/26;H01J37/08;H01J37/09;H01J37/16;H01J37/18;H01J37/26 主分类号 H01J27/26
代理机构 代理人
主权项
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