Vorrichtung zur Dämpfung von Schwingungen in Projektionsbelichtungsanlagen für die Halbleiterlithographie

摘要

Wechselbare Baugruppe (1) für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie (310), wobei die wechselbare Baugruppe mindestens ein passives Dämpfungselement (2) enthält, dadurch gekennzeichnet, dass das Dämpfungselement (2) ein mit einem elastischen Element (21) verbundenes Masseelement (20) aufweist.