发明名称 Epitaxialkammer mit Kreuzströmung
摘要 Im vorliegenden Dokument werden Verfahren und Vorrichtungen zum Verarbeiten eines Substrats bereitgestellt. In einigen Ausführungsformen enthält eine Vorrichtung zum Verarbeiten eines Substrats eine Prozesskammer, in der ein Substratträger angeordnet ist, um eine Verarbeitungsoberfläche eines Substrats in einer gewünschten Position innerhalb der Prozesskammer zu stützen; eine erste Einlassöffnung zum Einleiten eines ersten Prozessgases über die Verarbeitungsoberfläche des Substrats in einer ersten Richtung; eine zweite Einlassöffnung zum Einleiten eines zweiten Prozessgases über die Verarbeitungsoberfläche des Substrats in einer zweiten Richtung, die von der ersten Richtung verschieden ist, wobei ein Azimutwinkel, zwischen der ersten Richtung und der zweiten Richtung mit Bezug auf eine Mittelachse des Substratsträgers gemessen, maximal etwa 145 Grad beträgt; und eine Auslassöffnung, die gegenüber der ersten Einlassöffnung angeordnet ist, um das erste und das zweite Prozessgas aus der Prozesskammer abzulassen.
申请公布号 DE112010003931(T5) 申请公布日期 2012.11.08
申请号 DE20101103931T 申请日期 2010.09.28
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 SANCHEZ, ERROL;MYO, NYI OO;BAUTISTA, KEVIN JOSEPH;RAMACHANDRAN, BALASUBRAMANIAN;JUNEJA, HARPREET SINGH;ZHU, ZUOMING
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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