发明名称 |
一种母板取向膜的制作方法及转印版、取向液 |
摘要 |
本发明公开一种母板取向膜的制作方法及转印版、取向液,该方法包括:利用转印版在具有两个以上基板的母板上涂布取向液,使取向液在母板上形成取向膜,所述转印版具有对应覆盖两个以上基板的转印区;将所述母板上位于基板的显示区域以外且不需保留取向膜的区域的取向膜去除。根据本发明的技术方案,能够解决目前存在取向膜过厚的边缘区,以及取向膜过厚的边缘区与封框胶区域重叠引起的显示不良问题。 |
申请公布号 |
CN102768439A |
申请公布日期 |
2012.11.07 |
申请号 |
CN201210199221.7 |
申请日期 |
2012.06.14 |
申请人 |
北京京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
林海云;赵承潭;李辉;李京鹏 |
分类号 |
G02F1/1337(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/30(2006.01)I;G03F7/42(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1337(2006.01)I |
代理机构 |
北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 |
代理人 |
张颖玲;迟姗 |
主权项 |
一种母板取向膜的制作方法,其特征在于,该方法包括:利用转印版在具有两个以上基板的母板上涂布取向液,使取向液在母板上形成取向膜,所述转印版具有对应覆盖两个以上基板的转印区;将所述母板上位于基板的显示区域以外且不需保留取向膜的区域的取向膜去除。 |
地址 |
100176 北京市大兴区经济技术开发区西环中路8号 |