一种数控微镜阵光刻实现液晶任意取向控制的方法与装置

摘要

一种数控微镜阵光刻实现液晶任意取向控制的方法，利用一套基于DMD的投影式光刻系统，令准直后的紫外或蓝光束均匀照射到数控微镜阵DMD表面，计算机输出图形信号控制DMD各像素即单个微镜呈现不同反射状态实现掩模，即DMD各像素反射光实行图形信号的控制；所述光束通过显微物镜缩微后，经偏振片投射至表面涂有光控取向材料的基片上，控制光强、时间完成曝光，对曝光图案区域的液晶进行重新取向；与另一片基片组成液晶盒并灌晶，实现预定取向。该发明实现任意图形和取向方向的控制制备，在广视角液晶显示、可调光通讯器件、波前矫正、光束操纵等领域都具有潜在的重要应用。

主权项

一种数控微镜阵光刻实现液晶任意取向控制的方法，其特征是利用一套基于DMD的投影式光刻系统，令准直后的紫外或蓝光束均匀照射到数控微镜阵DMD表面，计算机输出图形信号控制DMD各像素即单个微镜呈现不同反射状态实现掩模，即DMD各像素反射光实行图形信号的控制；所述光束通过显微物镜缩微后，经偏振片投射至表面涂有光控取向材料的基片上，控制光强、时间完成曝光，对曝光图案区域的液晶进行重新取向；与另一片基片组成液晶盒并灌晶，实现预定取向。