| 发明名称 | 接近式曝光装置、基板温度控制方法及面板基板制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明是有关于一种接近式曝光装置、基板温度控制方法及面板基板制造方法，在接近式曝光装置中有效地进行基板的温度控制。在本体室(30)内利用夹盘(10)来支撑基板(1)，利用掩模支架(20)来保持掩模(2)，并利用平台来使夹盘(10)移动。向本体室(30)内横向地供给调温后的洁净空气，并一边使设置在夹盘(10)的下方的吸气口(41)随着夹盘(10)移动，一边从吸气口(41)引入本体室(30)内的空气并向本体室(30)外排出。向横向流动的空气顺着基板(1)的表面，向设置在夹盘(10)的下方的吸气口(41)转入，即便掩模(2)接近基板(1)而配置在基板(1)的上方，也可以向基板(1)的表面供给调温后的洁净空气。 | ||
| 申请公布号 | CN101930181B | 申请公布日期 | 2012.11.07 |
| 申请号 | CN201010202725.0 | 申请日期 | 2010.06.07 |
| 申请人 | 株式会社日立高科技 | 发明人 | 山中惠介;松本贤二;松山胜章;森顺一 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人 | 寿宁;张华辉 |
| 主权项 | 一种接近式曝光装置，在掩模与基板之间设置微小的间隙，将掩模的图案向基板转印，所述接近式曝光装置的特征在于包括：夹盘，用来支撑基板；掩模支架，用来保持掩模；平台，使所述夹盘移动；本体室，用来收纳所述夹盘、所述掩模支架及所述平台；空气供给机构，向所述本体室内横向地供给调温后的洁净空气；以及排气机构，在所述夹盘的下方具有随着所述夹盘而移动的吸气口，从所述吸气口引入所述本体室内的空气并向所述本体室外排出。 | ||
| 地址 | 日本东京港区西新桥1丁目24番14号 | ||