| 发明名称 | 一种MOCVD反应器 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种MOCVD反应器，包括炉盖、保护板、沉积区和衬托，炉盖下方是保护板，保护板下方是衬托，炉盖和保护板之间布置通有净化气体的管道，保护板和衬托之间布置从炉盖上方延伸的、通过生长气体的管道，其特征在于，在保护板的竖直方向设置一个或者多个吹扫气孔。 | ||
| 申请公布号 | CN102766852A | 申请公布日期 | 2012.11.07 |
| 申请号 | CN201110113928.7 | 申请日期 | 2011.05.04 |
| 申请人 | 广东量晶光电科技有限公司 | 发明人 | 楼刚 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京瑞恒信达知识产权代理事务所(普通合伙) 11382 | 代理人 | 曹津燕 |
| 主权项 | 一种MOCVD反应器，包括炉盖、保护板、沉积区和衬托，炉盖下方是保护板，保护板下方是衬托，炉盖和保护板之间布置通有净化气体的管道，保护板和衬托之间布置从炉盖上方延伸的、通过生长气体的管道，其特征在于，在保护板的竖直方向设置一个或者多个吹扫气孔。 | ||
| 地址 | 528251 广东省佛山市南海区平洲南港大道昭信广场503室 | ||