清洗MOCVD设备用石墨盘的烤盘炉装置

摘要

本发明提供了一种清洗MOCVD设备用石墨盘的烤盘炉装置，它包括工作室、气源系统、真空系统、加热系统、冷却系统和控制系统，其中工作室包括炉壁、隔热层、加热器、引入电极；隔热层与炉壁固定连接，引入电极由炉壁外穿过炉壁与隔热层并与加热器固定连接；气源系统、真空系统、加热系统、冷却系统分别与工作室相连；控制系统与气源系统、真空系统、加热系统、冷却系统分别相连；它解决了石墨盘上的沉积物一直困扰LED外延片生产的难题，使石墨盘经清洗后能够多次反复使用，从而降低生产成本，也为LED芯片生产的MOCVD工艺过程提供良好的质量保证。

主权项

一种清洗MOCVD设备用石墨盘的烤盘炉装置，其特征在于它包括工作室、气源系统、真空系统、加热系统、冷却系统和控制系统，其中工作室包括炉壁、隔热层、加热器、引入电极；隔热层与炉壁固定连接，引入电极由炉壁外穿过炉壁与隔热层并与加热器固定连接；气源系统、真空系统、加热系统、冷却系统分别与工作室相连；控制系统与气源系统、真空系统、加热系统、冷却系统分别相连。