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发明名称 Composition useful for removal of post-etch photoresist and bottom anti-reflection coatings
摘要
申请公布号 EP2482134(A3) 申请公布日期 2012.11.07
申请号 EP20120157762 申请日期 2006.01.09
申请人 ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. 发明人 MINSEK, DAVID W.;WANK, WEIHUA;BERNHARD, DAVID, D.;BAUM, THOMAS H.;RATH, MELISSA K.
分类号 G03F7/30;G03F7/32;G03F7/42 主分类号 G03F7/30
代理机构 代理人
主权项
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