固态成像装置及其制作方法、成像设备以及防反射结构的制作方法

摘要

本发明提供了固态成像装置及其制作方法，成像设备以及防反射结构的制作方法。一种防反射结构的制作方法，所述方法包括以下步骤：在衬底的表面上形成其中散布有微细粒子的树脂膜；通过在逐渐地蚀刻微细粒子的同时，使用在树脂膜中的微细粒子作为掩膜来对树脂膜进行蚀刻，来在树脂膜上形成突起假图案；通过对衬底的表面与其上形成有突起假图案的树脂膜一同进行回蚀，并且将形成在树脂膜的表面上的突起假图案的表面形状转移到衬底的表面上，来在衬底的表面上形成突起图案。

主权项

一种防反射结构的制作方法，所述方法包括以下步骤：在衬底的表面上形成树脂膜，所述树脂膜中散布有由金属氧化物或酞菁化合物制成的微细粒子；通过在逐渐地蚀刻所述微细粒子的同时，使用在所述树脂膜中的所述微细粒子作为掩膜来对所述树脂膜进行蚀刻，来在所述树脂膜上形成突起假图案；通过对所述衬底的表面与其上形成有所述突起假图案的所述树脂膜一同进行回蚀，并且将形成在所述树脂膜的表面上的所述突起假图案的表面形状转移到所述衬底的表面上，来在所述衬底的表面上形成突起图案。