发明名称 一种刻蚀液及一种柔性电路板刻蚀方法
摘要 本发明提供了一种刻蚀液,包括碱性刻蚀剂、缓蚀剂、次卤酸盐及溶剂。本发明的刻蚀液不仅能很好的刻蚀刻蚀面,刻蚀PI基材,形成设计电路,而且形成的线路边缘平整,没有浮起不良等问题出现,能制备更为精密的线路,提高了产品良率;且刻蚀效率增强,最短只需3分钟,一般9分钟即可实现电路的完美刻蚀,相对于现有的至少需要15分钟浸泡刻蚀,大大提高了生产效率,降低了成本,有利于大规模生产。
申请公布号 CN102766870A 申请公布日期 2012.11.07
申请号 CN201110116720.0 申请日期 2011.05.06
申请人 比亚迪股份有限公司 发明人 方吉;张玉梅
分类号 C23F1/34(2006.01)I;C23F1/02(2006.01)I;H05K3/06(2006.01)I 主分类号 C23F1/34(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种刻蚀液,其特征在于,包括碱性刻蚀剂、缓蚀剂、次卤酸盐及溶剂。
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