发明名称 | 一种刻蚀液及一种柔性电路板刻蚀方法 | ||
摘要 | 本发明提供了一种刻蚀液,包括碱性刻蚀剂、缓蚀剂、次卤酸盐及溶剂。本发明的刻蚀液不仅能很好的刻蚀刻蚀面,刻蚀PI基材,形成设计电路,而且形成的线路边缘平整,没有浮起不良等问题出现,能制备更为精密的线路,提高了产品良率;且刻蚀效率增强,最短只需3分钟,一般9分钟即可实现电路的完美刻蚀,相对于现有的至少需要15分钟浸泡刻蚀,大大提高了生产效率,降低了成本,有利于大规模生产。 | ||
申请公布号 | CN102766870A | 申请公布日期 | 2012.11.07 |
申请号 | CN201110116720.0 | 申请日期 | 2011.05.06 |
申请人 | 比亚迪股份有限公司 | 发明人 | 方吉;张玉梅 |
分类号 | C23F1/34(2006.01)I;C23F1/02(2006.01)I;H05K3/06(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/34(2006.01)I |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | 一种刻蚀液,其特征在于,包括碱性刻蚀剂、缓蚀剂、次卤酸盐及溶剂。 | ||
地址 | 518118 广东省深圳市坪山新区比亚迪路3009号 |