发明名称 在底部金属层下方带有电源轨的集成电路布局
摘要 一种电路,包括:半导体衬底;底部金属层,位于半导体衬底的上方,其中,在半导体衬底和底部金属层之间没有附加的金属层;以及单元,包括位于底部金属层下方的栓塞层级电源轨。本发明还提供了一种在底部金属层下方带有电源轨的集成电路布局。
申请公布号 CN102769015A 申请公布日期 2012.11.07
申请号 CN201210016630.9 申请日期 2012.01.18
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 侯永清;林学仕;田丽钧;陈淑敏;苏品岱
分类号 H01L27/02(2006.01)I;H01L23/528(2006.01)I 主分类号 H01L27/02(2006.01)I
代理机构 北京德恒律师事务所 11306 代理人 陆鑫;房岭梅
主权项 一种电路,包括:半导体衬底;底部金属层,位于所述半导体衬底的上方,其中,在所述半导体衬底和所述底部金属层之间没有附加的金属层;以及单元,包括位于所述底部金属层下方的栓塞层级电源轨。
地址 中国台湾新竹