| 发明名称 | 用于抛光镶嵌结构中的铝/铜及钛的组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供用于抛光基板的化学机械抛光组合物。该抛光组合物包含氧化剂、钙离子、有机羧酸及水，其中该抛光组合物具有1.5至7的pH值。本发明进一步提供一种利用上述抛光组合物对基板进行化学机械抛光的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101553550B | 申请公布日期 | 2012.11.07 |
| 申请号 | CN200780045436.0 | 申请日期 | 2007.12.04 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 弗拉斯塔·布鲁西克;周仁杰;保罗·菲尼;克里斯托弗·汤普森 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光组合物，包含：(a)研磨剂，其中该研磨剂为经聚合物处理的氧化铝，其包括用带负电荷的聚合物处理的氧化铝；(b)选自过氧化物、过硫酸盐、铁盐、及其组合的氧化剂；(c)25至400ppm的钙离子；(d)有机羧酸；及(e)水，其中该抛光组合物具有2至6的pH值。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||