发明名称 |
一种投影光刻物镜 |
摘要 |
一种投影光刻物镜,沿光束传播方向依次包括:一第一反射装置,将物方平面的入射光线反射进入一光学透镜系统;所述光学透镜系统包括:一具有正光焦度的第一透镜组;一具有负光焦度的第二透镜组;一凹面球面反射镜;以及一第二反射装置,将所述光学透镜系统的出射光线反射进入像方平面;其中,所述第一、第二透镜组满足以下关系:0.1<|fG11/fG12|<0.5其中,fG11:第一透镜组的焦距;fG12:第二透镜组的焦距。本发明的亚微米投影物镜,能校正场曲、像散,并实现物像空间的双远心。在能够实现亚微米分辨率同时,物面与像面平行,为整机设计带来便利。 |
申请公布号 |
CN102768397A |
申请公布日期 |
2012.11.07 |
申请号 |
CN201110117085.8 |
申请日期 |
2011.05.05 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
武珩;黄玲 |
分类号 |
G02B13/22(2006.01)I;G02B17/08(2006.01)I;G02B13/00(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G02B13/22(2006.01)I |
代理机构 |
北京连和连知识产权代理有限公司 11278 |
代理人 |
王光辉 |
主权项 |
一种投影光刻物镜,其特征在于,沿光束传播方向依次包括:一第一反射装置,将物方平面的入射光线反射进入一光学透镜系统;所述光学透镜系统包括:一具有正光焦度的第一透镜组;一具有负光焦度的第二透镜组;一凹面球面反射镜;以及一第二反射装置,将所述光学透镜系统的出射光线反射进入像方平面;其中,所述第一、第二透镜组满足以下关系:0.1<|fG11/fG12|<0.5其中,fG11:第一透镜组的焦距;fG12:第二透镜组的焦距。 |
地址 |
201203 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号 |